蔡司掃描電子顯微鏡EVO系列

　　作為高性能的掃描電子顯微鏡，蔡司掃描電鏡EVO系列可為顯微鏡專家和新用戶帶來直觀且易操作的使用體驗。憑借豐富的選件，EVO可根據您的需求量身定制，無論是在生命科學、材料科學，抑或是在日常工業質量保證和失效分析領域。

　　當您配置多功能解決方案用于顯微鏡中心或工業質量保證實驗室時，不同規格的樣品室和樣品臺選件可滿足您的各類應用需求。即使是對于用掃描電子顯微鏡難以處理的大型工業部件和樣品，它也同樣能夠滿足您的需求。

　　選用可提供更高電子束亮度以增強圖像分辨率和降低噪聲的成熟技術六硼化鑭(LaBg)電子槍，讓掃描電子顯微鏡在最大圖像質量下發揮出色的檢測性能。

　　借助可變壓力操作模式，讓您體驗EVO對非導電樣品出色的成像和分析。

　　安裝多種分析探測器的設計，EVO 可協助您完成要求嚴苛的顯微分析應用。

　　EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起， 同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學， 材料科學， 或例行的工業質量保證和失效分析領域，憑借廣泛的可選配置， EVO 都可以根據您的要求量身定制。

　　顯微鏡中心或工業質量保證實驗室的多功能解決方案

　　不同的真空室大小和可滿足所有應用要求的載物臺選項-甚至是大型工業零部件樣品

　　使用LaB6燈絲，能夠得到優異的圖像質量

　　對不導電和無導電涂層的樣品的成像和分析性能出色

 　可以配置多種分析探測器用于滿足各種顯微分析應用的需求

便捷的可用性   　　SmartSEM Touch可以通過使用您的指尖與其進行交互式工作流程控制。它簡單易學， 大大減少了培訓所付出的努力和成本，甚至新用戶在幾分鐘內也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶界面還支持需要自動化工作流程以執行可重復檢查任務的工業操作員。

優異的圖像質量   　　EVO 擅長于對未經處理和沒有導電涂層的樣品獲取高質量的數據。EVO 還允許樣品保留其原始狀態， 維持含水和重污染樣品的數據質量。此外當成像和微量分析面臨挑戰時，選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、 對比度和信噪比。

EVO 能夠與其它設備相關聯   　　EVO可以作為半自動、多模式工作流程的一部分，通過重新定位感興趣區域，并以多種方式收集數據，形成信息的完整性。將光學和電子顯微鏡圖像合并起來進行材料表征或零件檢驗，或者將 EVO 與蔡司光學顯微鏡相關聯，進行關聯顆粒度分析。

　　適合更多用戶操作：

　　對于經驗豐富的以及新手用戶操作都很方便

　　在實際的實驗室環境中，SEM 的操作通常是顯微鏡專家的專屬領域。但是對于非專家級用戶來說，操作SEM就變得具有挑戰，比如學生、受訓者或質量工程師，他們往往也需要從 SEM獲取數據。 EVO 則同時考慮了這兩類用戶的需求，用戶界面選項既能滿足有經驗的顯微鏡專家也能滿足非專業用戶的操作需要。

 　　出色的數據質量

　　使用六硼化鑭(LaB])電子槍獲取更豐富的數據

　　相比于傳統的發針型鎢燈絲，六硼化鑭陰極發射的電子可以滿足您對圖像質量的額外需求。而熱輻射成像掃描電子顯微鏡是從傳統超熱發針型鎢燈絲中產生電子，所以使用六硼化鑭熱電子槍具有明顯優勢。六硼化鑭晶體能夠從更小的點光源中發射出幾乎相同數量的電子，其結果是獲得了高達10倍的束流亮度。您可通過以下兩種方式來充分發揮這-優勢:

　　■在電子探針大小(如分辨率)不變的情況下，使用更高的探針電流輕松完成圖像導航與優化。

　　■在探針電流(信噪比)不變的情況下，通過更小的束流直徑提高圖像分辨率。

　　蔡司EVO應用案例：制造與裝配工業

　　典型任務與應用

　　■質量分析1質量控制

　　■失效分析/金相研究

　　■清潔度檢驗

　　■對顆粒進行形態和化學分析，以符合ISO 16232 和VDA 19 part 182的標準

　　■非金屬夾雜物分析

　　蔡司EVO的優點

　　■通過三種不同規格的樣品室提高樣品靈活性;最大樣品重量可達5kg;樣品的高度和寬度分別可達210 mm和300 mm

　　■智能成像和自動化工作流程可以實現高效的用戶交互

　　■針對每類樣品優化設置

　　■適用于非導電復合材料、纖維、聚合物和織物成像的可變壓力(VP) 技術

　　■使用C2D二次電子探測器完成可變壓力成像，以提高數據質量

　　■用于高級形貌與化學分析的全集成式顆粒分析和識別解決方案(SmartPI)

　　蔡司EVO應用案例：鋼和其它金屬

　　典型任務與應用

　　■結構的成像和分析，金屬樣品和夾雜物的化學特性與晶體結構

　　■相、顆粒度、焊點和失效分析

　　蔡司EVO的優點

　　使用EVO性能出眾的背散射電子(BSE)探測器獲取鐵素體鋼、奧氏體鋼、馬氏體鋼或二聯鋼和高級合金的清晰組分與晶體信息。

　　充分利用易操作的樣品室門和穩固耐用的樣品臺來加裝拉力試驗機、納米壓痕儀和加熱模塊，以實現金屬樣品的精細表征。

　　EVO出色的EDS幾何設計可用于完成高作業量、高精度的X射線分析。此外，其靈活的端口配置能為EBSD創建共面幾何結構,用以進行晶界、相識別及應變與滑移系統活動的微觀結構表征。

 　　出色的光束穩定性可用于在大面積樣品上進行長時間EDS和EBSD采集，以確保始終如一地提供可靠且可重復的結果。

　　蔡司EVO應用案例：半導體與電子元器件

　　典型任務與應用

　　■電子元器件、集成電路、MEMS裝置和太陽能電池的光學檢測

　　■銅線表面和晶體結構檢測

　　■金屬腐蝕檢測

　　■橫截面失效分析

　　■焊腳檢測

　　■電容器表面成像

　　蔡司EVO的優點

　　BSE和C2D等一系列探測器，可在VP模式下對半導體材料進行超高襯度形貌和組分成像，無充電假象。

　　可選的電子束減速系統能夠在最低加速電壓下提供超高分辨率，允許您觀察太陽能電池和集成電路的真實表面細節。

 　　EVO的靈活性使其可以運用大量第三方的測量與分析模塊，包括EBIC和納米探針，用以進行p-n結表征和集成電路失效分析。

　　蔡司EVO應用案例:材料科學研究

　　典型任務與應用

　　■在研究應用中表征導電和非導電材料樣品

　　蔡司EVO的優點

　　EVO可用于安裝一系列成像探測器。在裝備SE和BSE探測器、束流減速裝置及共面EDS和EBSD幾何結構后，EVO將成為一-款靈活的材料分析用研究工具。

　　快速簡便地在高真空和可變壓力模式之間進行切換，進行導電和非導電樣品檢測。

 　　先進的蔡司探測器技術，包括級聯電流探測器(C2D)和擴展級聯電流探測器(C2DX),可在擴展壓力模式和水蒸氣環境下操作，完成聚合物、塑料、纖維和復合物的出色成像。